南京工业氮气服务为先 新桦标准气体公司

●　金属氯化物生产

在温度为 700 ℃和有 、NiCl 2 存在下 ,可通过碳硅和反应制取四 。也可通过相应的金属氮化物和反应来制取 Mo 、Nb、Ta、Ti 、Zr、Hf 、Cr 、W 等金属的氯化物 。

●　氯烃生产

和烯烃、烷烃化合物可进行加成反应生产氯烃。例如在 35～ 40 ℃下 ,和在液相中反应制取氯 。工业上生产 1 , 1 -和1,1, 1-三氯是用氯和为原料生产的。

●　有机物合成

在有机物合成中, 可直接用作氯化剂, 例如各种氯化物可通过用氯化相应的醇来制取 。

●　其它应用

HCl -H 2 混合气可用于重油脱硫;HCl 的高温离解已应用于化学等离子体反应 ,通过等离子反应, 各种C 1 、C 2 的氯碳物和氯烃可由碳和来合成。

通过改变条件, 可使 1, 1,2 -三氯 、1 ,2 -、三和四成为主要产物 。

随着我国国民经济的快速发展,气体产品应用范围不断扩大,用量不断增加,新产品不断推出,纯度不断提高,市场需求不断扩大,产值增长速度远远超过同期国民经济总值的增长速度,达到年12%的增长率。***气体产品市场年销售额约为400亿元。安徽气体指出，虽然气体工业总产值在国民经济生产总值中所占的比例不算大,但它对当前飞速发展的微电子、航空航天、生物工程、新型材料、精密冶金、环境科学等高新技术部门有重要影响,是这些部门不可缺少的原材料气体或工艺气体。正是由于各种新兴工业部门和现代科学技术的需要和推动,气体工业产品才在品种,质量和数量等方面取得令人瞩目的飞跃发展。

电子气体的应用及类别！

自从半导体问世以来,高纯度电子气体的可靠供应在电子行业是至关重要的。首先通过不同的气体流把杂质原子引入到半导体材料来生产个别半导体元件,然后加以混合,再送进名为外延生长过程的反应容器中。

在制造集成电路的过程中,超过30种不同的电子气体被用于蚀刻\沉积\氧化\掺杂,和惰性保护的应用。现代晶片电路的严格要求规定,百万份\数十亿份甚至万亿份的水平的微量杂质将导致重大的缺陷,并由于高废品率导致成本增加。

一个典型的半导体生产厂的辅助设施提供包括以下几类电子气体：

?氮气通常利用分离空气在现场生产。它被广泛使用在许多过程中作为提供惰性环境或一个过程完成后的反应气体。

?氧气也可以在现场生产或以低温液体交付。它使用于把硅氧化-是所有半导体制造中关键的过程之一。

?***通常以低温液体交付，并用于为金属的溅射沉积提供惰性环境，因为氮气的反应性高而导致形成金属氮化物。

?氢气可以在现场生产、以低温液体或压缩气体交付-这取决于消耗速率。它是用于为金属膜进行退火时提供一种还原环境。